靶材是制備薄膜的主要材料之一，主要應(yīng)用于集成電路、平板顯示、太陽(yáng)能電池、記錄媒體、智能玻璃等，對(duì)材料純度和穩(wěn)定性要求高。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)材料，已得到空前的發(fā)展，靶材市場(chǎng)規(guī)模日益膨脹。
陶瓷靶材的種類：
（1）按應(yīng)用來分，可分為半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、磁記錄陶瓷靶材、光記錄陶瓷靶材、超導(dǎo)陶瓷靶材、巨磁電阻陶瓷靶材等。
（2）按化學(xué)組成，可分為氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等。其中平面顯示ITO陶瓷靶材國(guó)內(nèi)已廣泛生產(chǎn)應(yīng)用。高介電絕緣膜用陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材具有廣闊的應(yīng)用前景。
濺射陶瓷靶材的制備方法：常用的成型方法有干壓成型、冷等靜壓成型等。冷等靜壓成型由于具有坯體密度高而且均勻，磨具制作方便，成本較低等優(yōu)點(diǎn)，故而成為常用的成型方法。陶瓷靶材的燒結(jié)常采用常壓燒結(jié)、熱壓燒結(jié)及氣氛燒結(jié)等方法。
陶瓷靶材的特性要求：
（1）純度：陶瓷靶材的純度對(duì)濺射薄膜的性能影響很大，純度越高，濺射薄膜的均勻性和批量產(chǎn)品的質(zhì)量的一致性越好。
（2）密度：為了減少陶瓷靶材的氣孔，提高薄膜性能，要求濺射陶瓷靶材具有高密度。靶材越密實(shí)，濺射顆粒的密度月底，放電現(xiàn)場(chǎng)就越弱，薄膜的性能也越好。
（3）成分與結(jié)構(gòu)均勻性：為保證濺射薄膜均勻，尤特在復(fù)雜的大面積鍍膜應(yīng)用中，必須做到靶材成分與結(jié)構(gòu)均勻性好。
西安pg電子官方生物科技有限公司可根據(jù)客戶要求定制各種金屬靶材，多種形態(tài)（平面靶、多弧靶、旋轉(zhuǎn)靶及其它異形靶材），純度，包裝從克至噸級(jí)的高純金屬單質(zhì)。
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溫馨提示：靶材形狀：板材，圓片，矩形，方形，圓環(huán)，圓棒，臺(tái)階圓片，臺(tái)階矩形，三角形，管狀靶，套靶等或按客戶要求訂做，可根據(jù)客戶提供的圖紙要求加工. 并可以為客戶提供部分靶材的定制服務(wù).西安pg電子官方生物提供的所有產(chǎn)品僅用于科研，axc.2021.01.21
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