超大規(guī)模集成電路制造過程中要反復用到的濺射(Sputtering)工藝屬于物理氣相沉積(PVD)技術的一種,是制備電子薄膜材料的主要技術之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在高真空中經(jīng)過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。
高純?yōu)R射靶材行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈
高純?yōu)R射靶材行業(yè)屬于電子材料領域,其產(chǎn)業(yè)鏈上下游關系如下:
高純金屬及濺射靶材是電子材料的重要組成部分,濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用等環(huán)節(jié),其中,靶材制造和濺射鍍膜環(huán)節(jié)是整個濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈中的關鍵環(huán)節(jié)。
在藥物范圍內(nèi),濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)參與企業(yè)數(shù)量基本呈金字塔型分布,高純?yōu)R射靶材制造環(huán)節(jié)技術門檻高、設備投資大,具有規(guī);a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對較少,主要分布在美國、日本等國家和地區(qū),其中,部分企業(yè)同時開展金屬提純業(yè)務,將產(chǎn)業(yè)鏈延伸到上游領域;部分企業(yè)只擁有濺射靶材生產(chǎn)能力,高純度金屬需要上游企業(yè)供應。
濺射靶材產(chǎn)業(yè)分布具有一定的區(qū)域性特征,美國、日本跨國集團產(chǎn)業(yè)鏈完整,囊括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用各個環(huán)節(jié),具備規(guī);a(chǎn)能力,在掌握**技術以后實施壟斷和封鎖,主導著技術革新和產(chǎn)業(yè)發(fā)展;韓國、新加坡及中國臺灣地區(qū)在磁記錄及光學薄膜領域有所特長。另外由于上述地區(qū)芯片及液晶面板產(chǎn)業(yè)發(fā)展較早,促使服務分工明確,可以為產(chǎn)業(yè)鏈下游的品牌企業(yè)提供如焊接、清洗、包裝等藥物代工服務,將上游基礎材料和下游終端應用對接,起到承上啟下的作用,并在一定程度上推動上游濺射靶材的產(chǎn)品開發(fā)和市場擴展。但是上述地區(qū)的靶材服務廠商缺少核心技術及裝備,不能夠在金屬的提純、組織的控制等核心技術領域形成競爭力濺射靶材的材料即靶坯依然依賴美國和日本的進口。超高純金屬材料及濺射靶材在我國還屬于較新的行業(yè),以芯片制造廠商、液晶面板制造企業(yè)為代表的下游濺射鍍膜和終端用戶正在加大力度擴展產(chǎn)能。從藥物來看,芯片及液晶面板行業(yè)制造向中國大陸轉(zhuǎn)移趨勢愈演愈烈,中國正在迎來這一領域的投資高峰。
西安pg電子官方生物提供的金屬靶材產(chǎn)品按元素分類:
2.釔元素(Y): 主要產(chǎn)品有工業(yè)純度金屬釔、高純度金屬釔、金屬釔靶材、釔鋯合金、釔鋁合金、釔鎂合金和其它釔合金、靶材等.
3.鑭元素(La): 主要產(chǎn)品有工業(yè)純度的金屬鑭、金屬鑭靶材、鑭鎳合金、鑭鈰合金、鑭鋁合金及其它鑭合金、靶材等.
4.鈰元素(Ce): 主要產(chǎn)品有工業(yè)純度的金屬鈰、金屬鈰靶、鈰-鋁合金、鑭-鈰合金及其它鈰合金、靶材等.
5.鐠元素(Pr): 主要產(chǎn)品有工業(yè)純度的金屬鐠、金屬鐠靶材、鐠-釹合金及其它鐠合金、靶材等.
8.釓元素(Gd): 主要產(chǎn)品有工業(yè)純度的金屬釓、高純度的金屬釓、金屬釓靶材、釓鐵鈷合金、釓鈦鋯合金、釓鈦合金及其它釓合金、靶材等.鋱元素。
包裝及保存說明
1.出庫包裝:內(nèi)部真空袋真空包裝,外部為定制產(chǎn)品靶材盒,紙箱快遞運輸
2.儲存方法:收到產(chǎn)品后,需儲存于干燥環(huán)境,密封包裝,輕拿輕放,防壓防撞
3.使用注意:使用前觀察靶材表面是否清潔,帶上干凈的手套操作, 避免直接用手接觸物料,勿被油污等異物污染
溫馨提示:西安pg電子官方生物提供各種靶材形狀:板材,圓片,矩形,方形,圓環(huán),圓棒,臺階圓片,臺階矩形,三角形,管狀靶,套靶等或按客戶要求訂做,可根據(jù)客戶提供的圖紙要求加工. 并可以為客戶提供部分靶材的定制服務.
西安pg電子官方生物提供的所有產(chǎn)品僅用于科研,axc.2021.01.21