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          三維厚膠/電子束光刻膠/薄膠/Lift off光刻膠/光刻膠紫外正性光刻膠(pg電子官方定制)
          發(fā)布時間:2021-01-26     作者:wyf   分享到:

          三維厚膠/電子束光刻膠/薄膠/Lift off光刻膠/光刻膠紫外正性光刻膠(pg電子官方定制)

          產品型號光源分辨率厚度(um)適用范圍
          厚膠 Thick ResistSU-8 GM10xx系列g/h/i-Line負性0.1um0.1-200具有較大的高寬比,透明度高,垂直度**。
          SU-8 Microchemg/h/i-Line負性0.5um0.5-650具有較大的高寬比,透明度高,垂直度**。

          g/h/i-Line正性1um1—30可用于選擇性電鍍電鍍,深硅刻蝕等工藝。
          NR26-25000Pg/h/i-Line負性
          20-130厚度大,相對容易去膠。
          電子束光刻膠型號光源類型分辨率厚度(um)適用范圍
          SU-8 GM1010電子束負性100nm0.1-0.2可用于做高寬比較大的納米結構。
          HSQ電子束負性6nm30nm~180nm分辨率較好的光刻膠,抗刻蝕。
          XR-1541-002/004/006
          HSQ Fox-15/16電子束負性100nm350nm~810nm分辨率較好的光刻膠,抗刻蝕。
          PMMA(國產)電子束正性\\高分辨率,適用于各種電子束光刻工藝,較常用的電子束光刻正膠。
          PMMA(進口)電子束正性\\MicroChem,各種分子量,適用于各種電子束光刻工藝,較常用的電子束光刻正膠。
          薄膠型號光源類型分辨率厚度(um)適用范圍
          S18xx系列g-Line正性0.5um0.4-3.5較常用的薄光刻膠,分辨率高,穩(wěn)定可靠。
          SPR955系列i-Line正性0.35um0.7-1.6進口高分辨率(0.35um)光刻膠,穩(wěn)定可靠。
          BCI-3511i-Line正性0.35um0.5-2國產0.35um光刻膠,已經(jīng)在量產單位規(guī)模使用。
          NRD6015248nm負性0.2um0.7-1.3國產深紫外光刻膠,已經(jīng)在量產單位規(guī)模使用。
          Lift off光刻膠型號光源類型分辨率厚度(μm)適用范圍
          KXN5735-LOg/h/i-Line負性4μm2.2-5.2負性光刻膠;倒角65-80°,使用普通正膠顯影液顯影。
          LOL2000/3000g/h/i-Line/NA130nm-300nm非感光性樹脂,可以被顯影液溶解,作為lift off雙層膠工藝中底層膠使用。
          ROL-7133g/h/i-Line/4um2.8-4負性光刻膠,倒角75~80°,使用普通正膠顯影液。
          光刻膠配套試劑品名主要成分包裝應用//
          正膠顯影液TMAH 2.38%4LR/PC正膠顯影液//
          正膠稀釋劑PGMEA4LR/PC稀釋劑//
          SU8 顯影液PGMEA4L/PC顯影SU8光刻膠//
          RD-HMDSHMDS500ml/PC增粘劑//
          OMNICOAT見MSDS500ml/PCSU-8增粘劑//

          光刻膠——高精度光刻的關鍵

          在半導體制造領域,上游微電子材料和設備是支撐該行業(yè)的關鍵部分。上游微電子材料包括半導體制造過 程中用到的所有化學材料,包括硅片、光刻膠及輔助材料、光掩模、CMP 拋光材料、工藝化學品、濺射靶材、 特種氣體等。其中,光刻膠是占據(jù)**重要地位的關鍵原材料。

          光刻是將電路圖形由掩膜版轉移到硅片上,為后續(xù)刻蝕工藝做準備的過程。光刻是 IC 制造過程中耗時較長、 難度較大的工藝之一,耗時占 IC 制造 50%,成本占 IC 制造 1/3。在一次芯片制造中,往往要對硅片進行上十次 光刻,其主要流程為清洗、涂膠、前烘、對準、曝光、后烘、顯影、刻蝕、光刻膠剝離、離子注入等。在光刻 過程中,需在硅片上涂一層光刻膠,經(jīng)紫外線曝光后,光刻膠的化學性質發(fā)生變化,通過顯影后,被曝光的光刻膠將被去除,電路圖形由掩膜版轉移到光刻膠上,再經(jīng)過刻蝕工藝,實現(xiàn)電路圖形由光刻膠轉移到硅片上。

          image.png

          光刻膠是光刻工藝較重要的耗材,光刻膠的質量對光刻精度至關重要。光刻膠是指通過紫外光、準分子激 光、電子束、離子束、X 射線等光源的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻材料。由于光刻膠具有光化學 敏感性和防腐蝕的保護作用,因此經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝,可以將微細電路圖形從掩膜版轉移到硅片。雖然光刻膠制造成本低,但是技術壁壘高,不可替代,難以保存。

          光刻過程示意圖

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          光刻膠按照應用場景不同可分為半導體光刻膠、LCD 光刻膠、PCB 光刻膠。光刻膠處于半導體產業(yè)鏈的 材料環(huán)節(jié),上游為基礎化工材料和精細化學品行業(yè),中游為光刻膠制備環(huán)節(jié),下游為半導體制造,較后市場是 電子產品應用終端。

          光刻膠的種類:

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          光刻膠的主要成分有光刻膠樹脂、感光劑、溶劑和添加劑。光刻膠樹脂是一種惰性的聚合物基質,是用來 將其它材料聚合在一起的粘合劑;光刻膠的粘附性、膠膜厚度等特性都是由樹脂決定的。感光劑是光刻膠的核 心部分,它對光形式的輻射能,特別是在紫外區(qū)光的輻射能會發(fā)生反應;曝光時間、光源所發(fā)射光線的強度都 和感光劑的特性直接相關。溶劑是光刻膠中容量大的成分;因為感光劑和添加劑都是固態(tài)物質,為了將他們 均勻地涂覆,要將它們加入溶劑進行溶解,形成液態(tài)物質,且使之具有良好的流動性,可以通過旋轉方式涂布 在晶圓表面。添加劑可以用以改變光刻膠的某些特性,如可以通過添加染色劑來改善光刻膠,使其發(fā)生反射。

           

          光刻膠的品種多種多樣,基于感光樹脂的化學結構,按技術可分為光聚合型、光分解型、光交聯(lián)型三種。另外,正性和負性光刻膠是光刻膠的兩個重要品類,光照后形成可溶物質的為正性膠,形成不可溶物質的為負 性膠。由于性能較優(yōu),正性光刻膠應用更廣,但由于光刻膠需求量大,負性膠仍有一定的應用市場。

          基礎產品供應;

          產品名稱    cas    

          1-丙烯酸金剛烷酯    121601-93-2    

          1-金剛烷基甲基丙烯酸酯    16887-36-8    

          丙烯酸三環(huán)[5.2.1.02,6]癸-8-基酯    7398-56-3    

          4-乙酰氧基苯乙烯    2628-16-2    

          1,3-金剛烷二醇單丙烯酸酯    216581-76-9    

          2-甲基-2-金剛烷醇丙烯酸酯    249562-06-9    

          2-乙基-2-金剛烷基丙烯酸酯    303186-14-3    

          1,3-金剛烷二醇二丙烯酸酯    81665-82-9    

          2-氧代六氫-2H-3,5-亞甲基環(huán)戊二烯并[b]呋喃-6-基甲基丙烯酸酯    254900-07-7    

          甲基丙烯酸三環(huán)[5.2.1.02,6]癸-8-基酯[    34759-34-7    

          2-異丙基-2-金剛烷丙烯酸甲酯    297156-50-4    

          2-異丙基-2-金剛烷醇丙烯酸酯    251564-67-7    

          gamma-丁內酯-3-基異丁烯酸酯    130224-95-2    

          N-異丙基甲基丙烯酰胺    13749-61-6    

          (9H-芴-9,9-二基)雙(亞甲基)二丙烯酸酯    583036-99-1    

          (5-氧代四氫呋喃-2-基)甲基丙烯酸甲酯    156938-09-9    

          1-乙基環(huán)戊基甲基丙烯酸酯    266308-58-1    

          1-異丙基-1-環(huán)己醇甲基丙烯酸酯    811440-77-4    

          2-甲基-2-丙烯酸4-羥基苯基酯    31480-93-0    

          n-butyl2-(bromomethyl)prop-2-enoate    170216-64-5    

          2-(溴甲基)丙烯酸甲酯    4224-69-5    

          甲基丙烯酸-9-蒽甲酯    31645-35-9    

          2-oxo-2-((2-oxohexahydro-2H-3,5-methanocyclopenta[b]furan-6-yl)oxy)ethylmethacrylate[    347886-81-1    

          2-乙烯基萘    827-54-3    

          2-環(huán)己基丙烷-2-基甲基丙烯酸酯    186585-56-8    

          2-甲基-丙烯酸2-氧代-四氫-呋喃-3-基酯    195000-66-9    

          丙烯酸甲基環(huán)戊酯    178889-49-1    

          丙烯酸1-乙基環(huán)戊酯    326925-69-3    

          2-氧代四氫呋喃-3-基丙烯酸酯    328249-37-2    

          4-叔丁氧基苯乙烯    95418-58-9    

          4-(4-(丙烯酰氧基)丁氧基)苯甲酸    69260-42-0    

          甲基丙烯酸-2,2,3,3,4,4,4-七氟代-丁酯    13695-31-3    

          3-(4-vinylphenyloxy)-1-propene    16215-47-7    

          acetic acid,4-ethenylbenzene-1,2-diol    57142-64-0    

          1-(1-乙氧基乙氧基)-4-乙烯基苯    157057-20-0    

          1-甲基環(huán)己基甲基丙烯酸酯    76392-14-8    

          2-氧代-2-(2,2,3,3,3-五氟丙氧基)乙基甲基丙烯酸酯    1176273-16-7    

          2,5-二甲基己烷-2,5-二基雙(2-甲基丙烯酸酯)    131787-39-8    

          1-甲基環(huán)戊基甲基丙烯酸酯    178889-45-7    

          1-乙基環(huán)己基甲基丙烯酸酯    274248-09-8    

          4-異丙基苯酚    4286-23-1    

          (2-oxo-1,3-dioxolan-4-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate    13818-44-5    

          乙酸-2-乙烯基苯基酯    63600-35-1    

          2-(金剛烷-1-基)丁-2-基甲基丙烯酸酯    325991-26-2    

          1-ethoxyethyl 2-methylprop-2-enoate    51920-52-6    

          甲基丙烯酸四氫呋喃-2-基酯    15895-80-4    

          oxan-2-yl 2-methylprop-2-enoate    52858-59-0    

          6-methacryloyl-6-azabicyclo[3.2.0]heptan-7-one    1267624-16-7    

          3-叔丁氧基苯乙烯    105612-79-1    

          2-丙烯酸3-(二乙氧基甲基甲硅烷基)丙基酯    13732-00-8    

          2,3-二羥基丙烯酸丙酯    10095-20-2    

          2-[(4-乙烯基苯氧基)甲基]環(huán)氧乙烷    2653-39-6    

          3,5-二乙酰氧基苯乙烯    155222-48-3    

          2-(2,2-二氟乙烯基)雙環(huán)[2.2.1]庚烷    123455-94-7    

          二苯基碘酰氯    1483-72-3    

          雙[4-(1,1-二甲基乙基)苯基]碘鎓與三氟甲磺酸的鹽    84563-54-2    

          全氟丁基磺酸三苯基锍鹽    144317-44-2    

          雙(4-叔丁基苯基)氯化碘鎓    5421-53-4    

          TBPDPS-PFBS    258872-05-8    

          1二(4-叔丁基苯基)碘鎓全氟代丁烷磺酸鹽    194999-85-4    

          (4-苯基硫代苯基)二苯基锍三氟甲磺酸    111281-12-0    

          N-羥基萘酰亞胺三氟甲磺酸    85342-62-7    

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