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          離子液體門控誘導(dǎo)的SrCoO2.5表面平臺(tái)邊緣的修飾
          發(fā)布時(shí)間:2020-09-03     作者:harry   分享到:

          對材料的晶體或電子相的電學(xué)控制是當(dāng)今許多電子設(shè)備的基石。使用基于離子液體(ILs)的晶體管器件可在IL和薄膜通道界面處形成的超薄雙電層(EDL)內(nèi)產(chǎn)生強(qiáng)電場。已經(jīng)有研究表明,這些電場可以導(dǎo)致離子遷移進(jìn)出薄膜,從而導(dǎo)致結(jié)構(gòu)變化或相變,這些變化在自旋電子學(xué)、傳感、生物傳感和神經(jīng)形態(tài)設(shè)備中具有潛在的應(yīng)用。

          IL門控誘導(dǎo)的離子遷移可以在很長的距離內(nèi)進(jìn)行,長可達(dá)微米,從而導(dǎo)致整個(gè)薄膜的物理性質(zhì)發(fā)生變化。然而,對薄膜表面本身的改性研究很少,盡管表面狀態(tài)的微小變化會(huì)強(qiáng)烈影響在IL門控中發(fā)生的電化學(xué)反應(yīng)。


          馬克斯·普朗克微結(jié)構(gòu)物理研究所Stuart. S. P. Parkin教授采用原位原子力顯微鏡(AFM)研究了IL 1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺酰)亞胺鹽(EMIM-TFSI)門控下SrCoOxSCO)薄膜表面的演變(圖1)。發(fā)現(xiàn)膜表面平臺(tái)邊緣的形態(tài)發(fā)生了**變化,但平臺(tái)本身看起來沒有變化,X射線光電發(fā)射光譜研究表明,邊緣形成的脊是羥基吸附的結(jié)果。




          1. SrCoO2.5薄膜表面的原子級(jí)光滑平臺(tái)邊緣被IL門控修飾
          (圖片來源:ACS Nano


          作者將原位AFM懸臂浸入IL中,同時(shí)施加?xùn)艠O電壓(VG)掃描表面。圖2b-g顯示了不同VG下的原位AFM形貌圖,2h中總結(jié)了hRSVG的演變,這證實(shí)了脊的結(jié)構(gòu)變化是可逆的。與平臺(tái)邊緣的急劇變化不同,平臺(tái)的平坦部分對IL門控沒有任何明顯的響應(yīng),表明在這個(gè)門控周期中,平臺(tái)和邊緣的化學(xué)成分分別經(jīng)歷了可逆和不可逆的變化。



          接著,作者在IL門控下研究了SrCoO2.5薄膜的電導(dǎo)率和晶體結(jié)構(gòu)。通過0→?1.8→0→+1.8→0 V循環(huán)VG,能可逆地操縱SrCoO2.5的電阻值近4個(gè)數(shù)量級(jí)(圖3a)。圖3b所示的X射線衍射(XRD)結(jié)果表明,IL門控誘導(dǎo)的絕緣體-金屬躍遷伴隨著重大的結(jié)構(gòu)變化,VG = -1.8 V時(shí),引發(fā)了從SrCoO2.5SrCoO3的結(jié)構(gòu)相變。為了了解IL門控過程中表面演化的機(jī)理,作者轉(zhuǎn)向一種表面敏感技術(shù),即X射線光電子能譜(XPS),提出OH-離子可能是由于溶解在IL中殘留的H2O引起的(圖4),在ILs中添加體積分?jǐn)?shù)為0.11.0H2O,樣品的Co-OH峰強(qiáng)度顯著提高。運(yùn)用原理密度泛函,分別計(jì)算了離平臺(tái)邊緣不同距離吸附的羥基結(jié)合能(ΔEOH),平臺(tái)邊緣的結(jié)合能明顯較高(圖5)。


          總而言之,這項(xiàng)工作提出了IL門控可**改變SrCoOx薄膜表面。雖然原子級(jí)平臺(tái)的形態(tài)沒有太大變化,但平臺(tái)的邊緣形成了脊,這是由于溶解在離子液體中的羥基引起的,并且這些脊的傳導(dǎo)性要比平臺(tái)低得多。所觀察到的平臺(tái)邊緣修飾也顯示出從異質(zhì)催化到生物醫(yī)學(xué)和環(huán)境傳感應(yīng)用中納米結(jié)構(gòu)電化學(xué)界面的潛力。



          原文鏈接:
          https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acsnano.0c02880
          原文作者:
          Yuechen Zhuang, Bin Cui,Hao Yang, Fang Gao and Stuart. S. P. Parkin
          DOI: 10.1021/acsnano.0c02880

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